Loji Oksigen PSA Untuk Pembuatan Semikonduktor

Ketulenan oksigen:Pembuatan semikonduktor biasanya memerlukan oksigen ketulenan ultra tinggi, secara amnya diperlukan untuk mencapai 99.999% atau lebih tinggi, untuk memastikan kualiti dan prestasi produk semikonduktor.
Kadar aliran oksigen:Mengikut skala pengeluaran dan keperluan proses pembuatan semikonduktor, peralatan oksigen PSA perlu menyediakan kadar aliran oksigen yang stabil untuk memenuhi permintaan oksigen berterusan dalam proses pengeluaran.
Suhu titik embun:Kandungan lembapan dalam oksigen diperlukan sangat rendah, dan suhu takat embun biasanya diperlukan di bawah - 60 darjah untuk mengelakkan kelembapan daripada memberi kesan buruk pada proses pembuatan semikonduktor.
Kandungan kekotoran zarah:Kandungan kekotoran zarah dalam oksigen mesti dikawal dengan ketat, secara amnya dikehendaki berada di bawah 0.1 mikron, untuk mengelakkan kekotoran zarah yang menyebabkan kecacatan pada permukaan cip semikonduktor.

Pengoksidaan adalah langkah asas dan kritikal dalam banyak pautan proses pembuatan semikonduktor. Sebagai contoh, dalam proses pengoksidaan wafer silikon, oksigen ketulenan tinggi diperlukan untuk membentuk lapisan silikon dioksida (SiO₂). Lapisan silikon dioksida ini boleh digunakan sebagai lapisan penebat atau sebagai topeng untuk proses seterusnya. Oksigen ketulenan tinggi yang disediakan oleh peralatan oksigen PSA (biasanya dengan ketulenan sehingga 99.999% atau lebih tinggi) boleh memastikan ketepatan dan kestabilan tindak balas pengoksidaan, supaya lapisan silikon dioksida yang dihasilkan mempunyai kualiti seragam dan ketebalan yang tepat, yang adalah sangat penting untuk pembuatan peranti semikonduktor berprestasi tinggi (seperti transistor dalam litar bersepadu).